Par termoelétrico | Tipo de K |
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Ambiente de trabalho | nitrogênio, argônio, ar, dióxido de carbono, etc. |
Precisão da exposição | 0.1°C |
Uniformidade | ± 3 ℃ |
Sistema de controlo | Controlo automático do PID |
Temperatura máxima | 1700℃ |
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Temperatura de trabalho | 1650℃ |
Atmosfera da fornalha | gás da decomposição da amônia |
Tamanho da câmara | personalizado |
Tamanho da placa de impulso | L240*W240*H35mm |
Tamanho da fornalha | personalizado |
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Tamanho da câmara | personalizado |
Temperatura máxima | personalizado |
Temperatura do trabalho | personalizado |
OEM | lata |
Temperatura máxima | 1700℃ |
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Temperatura de trabalho | 1650℃ |
Atmosfera da fornalha | gás da decomposição da amônia |
Tamanho da câmara | personalizado |
Tamanho da placa de impulso | L240*W240*H35mm |
Modelo NÃO. | RTP1100 |
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Temperatura avaliado | 1000℃ |
Uniformidade de temperatura | ±5℃ |
Taxa de aquecimento da fornalha | ≥50℃/S |
A velocidade de arrefecimento a mais rápida | ≥10℃/S |
Temperatura máxima | 1700℃ |
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Temperatura de trabalho | 1650℃ |
Atmosfera da fornalha | gás da decomposição da amônia |
Tamanho da câmara | personalizado |
Tamanho da placa de impulso | L240*W240*H35mm |
Tamanho da fornalha | personalizado |
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Tamanho da câmara | personalizado |
Temperatura máxima | personalizado |
Temperatura do trabalho | personalizado |
OEM | lata |
Tamanho da câmara | Personalizado |
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Aquecedor | Fios de liga de molibdênio-lantânio |
Temperatura de funcionamento | 1600℃ |
Precisão de controle | ± 1°C |
Método de controle da temperatura | PID |
Material do rolo | carboneto de silicone ou cerâmica da alumina |
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Temperatura máxima | 1350℃ |
Temperatura de trabalho | 1300℃ |
Tamanho da câmara | personalizado |
Tamanho da fornalha | personalizado |
Modelo NÃO. | RTP1100S |
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Temperatura máxima | 1100℃ |
Temperatura avaliado | 1000℃ |
Precisão de controle da temperatura | ±1℃ |
A taxa de aquecimento mais rápida | 20℃/S |