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HTCC MLCC Substrato de nitruro de aluminio de desbinding de alto horno de vacío

Precio: negotiable MOQ: 1
Chamber size Customized
Calentador Las barras de grafito
Temperatura de trabajo 1850℃
Control accuracy ±1℃
Método del control de la temperatura PID
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Horno de elevación de cargamento por la base controlado programable del alto calor para los substratos de cerámica

Precio: negotiable MOQ: 1
Temperatura del diseño 1750°C
Temperatura del trabajo 1700°c
Atmósfera aire u oxígeno suplementario
Tamaño del horno modificado para requisitos particulares
Elemento de calefacción barra en forma de "U" de alta calidad del molibdeno del silicio
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